中国一家芯片企业公布了一项新技术，不需EUV光刻机，利用现有的DUV光刻机就能量产5nm芯片。

他们把这项技术叫做SAQP技术，主要是对现有的DUV光刻机的操作系统和工艺流程做出修改，并改善了激光技术，通过SAQP四重曝光后，生产出5nm芯片，如果再用上华为的芯片叠加技术或者中科的芯粒技术，还可生产出更高端的芯片。

这样生产出来的芯片，成本降低明显，主要是因为用EUV光刻机生产的话，EUV光刻机高昂的价格一下就升高了芯片的单价。

其实日本也有不需EUV光刻机，利用日本发明的NIL工艺就能生产5nm芯片。

美国也不需EUV光刻机，利用其研制的1-beta工艺也能够生产5nm芯片。

大家之所以自己开发新技术，不愿使用EUV光刻机，其根本的原因还是因为钱，就是这样生产的芯片价格低呀。

所以，事在人为，只有热衷科技创新，没有走不出来的坎。

我国被限制后，就几年时间，芯片行业全面爆发，不但对传统芯片有了追赶，还实现了弯道超车，世界第一条光子芯片生产线、世界第一条量子芯片生产线都在中国建成。

这不得不让人佩服中国人的智慧和毅力，都是超强的啊。